tenké vrstvy

Slabé vrstvy materiálu vytvořené (chemickým, plazmochemickým, vakuovým napařováním, katodovým rozprašováním, elektrolytickým pokovováním) na pevném podkladu. Tlouštka tenké vrstvy bývá od rozměrů atomů či molekul až po řádově 10^-6 m. Fyzika tenké vrstvy je součástí fyziky pevných látek, studuje hlavně charakteristické vlastnosti tenké vrstvy, například jejich zrnitost, koncentraci dislokací, krystalovou orientaci (při tzv. epitaxi je krystalová struktura tenké vrstvy determinována podkladovým materiálem), elektrické, magnetické a optické vlastnosti. Užití: v elektronice – tenkovrstevné pasívní (odpory, kondenzátory, cívky) i aktivní (tranzistory) prvky, integrované obvody, fotocitlivé prvky (fotonásobiče, sluneční cely), v optoelektronice, v povrchové úpravě materiálů, v optice (antireflexní a fluorescenční vrstvy).